碳化硅适用于加工硬质合金，玻璃，陶瓷和非金属材料外，还用于半导体材料，高温硅碳棒发热体等。以下是碳化硅在冶炼中产生的杂质：
　　电工碳化硅冶炼炉子中，杂质的含量更可高达5%，由原料带入的杂质主要是铝，铁，钙的氧化物，由回炉料带入的主要是铝，铁，钙一等级合金或者它们的氧化物（氧化铁，氧化铝，氧化钙等等）这些杂质的存在严重影响了碳化硅的总体含量。
　　实验证明：炉料内氧化钙与氧化铝的总体含量如果达到了3%，就会使一等级碳化硅的结晶产物大约减少40%。由此可见碳化硅质量也与这些杂质有很大的关系。
　　去杂质的办法：
　　①首要来讲碳化硅的酸洗。酸洗通常是在加热的条件下，用硫酸对碳化硅颗粒进行处理，主要目的是为了去掉碳化硅中的金属铁，氧化铁，镁，铝等杂质。这么能够很洁净方便的去掉碳化硅中的杂质。
　　②其次是碳化硅的碱洗。碳化硅的碱洗通常是在加热的条件下，用NAOH对碳化硅颗粒进行处理，主要目的是除掉外表的游离硅，二氧化硅等等，这么能够进步碳化硅的含量，加强它的碳化硅含量。